4-氨基-5-(4-吡啶基)-4H-1,2,4-三唑-3-硫醇
发布时间:2025-09-13
1. 基本结构:
- 该化合物的分子式为C9H9N5S,分子量为233.27。
- 它包含一个4-氨基-5-(4-吡啶基)-4H-1,2,4-三唑环和一个硫醇(-SH)基团。
2. 物理性质:
- 关于其具体的熔点、沸点、密度等物理性质,由于搜索结果中未直接给出,这些信息可能需要通过实验测定或查阅专业化学数据库来获取。然而,一般来说,这类化合物可能具有较高的熔点和较低的挥发性,因为其分子结构较为复杂且含有多个氮原子和芳环。
3. 化学性质:
- 酸性:硫醇基团(-SH)具有一定的酸性,可以与强碱反应生成相应的盐。
- 亲核性:硫醇基团中的硫原子具有孤对电子,因此具有较强的亲核性,容易发生亲核取代反应。
- 氧化还原性:硫醇基团容易被氧化,如在空气中缓慢氧化或在强氧化剂作用下迅速氧化。
- 配位能力:由于分子中含有多个氮原子和硫原子,该化合物可能具有一定的配位能力,能够与金属离子形成配合物。
4. 稳定性:
- 该化合物的稳定性受多种因素影响,包括温度、光照、氧气等。在适当的条件下储存和使用,可以保持其稳定性。然而,长时间暴露在空气中或高温下可能会加速其分解或氧化。
5. 溶解性:
- 关于其在各种溶剂中的溶解性,同样需要通过实验测定或查阅相关文献来确定。但一般来说,由于其分子结构中含有极性和非极性部分,它可能在某些极性溶剂(如DMSO、DMF等)和非极性溶剂(如氯仿、乙酸乙酯等)中都有一定的溶解度。
1. GHS分类:
- 无具体数据。通常需要参考化学品安全技术说明书或相关数据库来确定其具体的GHS分类。
2. 安全术语:
- 避免吸入粉尘/烟/气体/烟雾/蒸气/喷雾。
- 操作后彻底清洗双手。
- 只能在室外或通风良好之处使用。
- 受污染的容器和设备应彻底清理干净后再使用。
- 戴防护手套,穿防护服,避免接触眼睛和皮肤。
3. 风险术语:
- 对水生生物有毒并具有长期持续影响。
- 吞食有害,对眼睛、呼吸道和皮肤有刺激性。
4. 急救措施:
- 吸入:将受害者移至新鲜空气处,保持呼吸舒适,必要时进行人工呼吸,并立即就医。
- 皮肤接触:用大量肥皂和水冲洗,如有不适,请寻求医疗帮助。
- 眼睛接触:用水彻底冲洗至少15分钟,如戴隐形眼镜且方便取出,则取出隐形眼镜,继续冲洗,并立即就医。
- 摄入:不要催吐,立即就医并出示此物质的容器或标签。
5. 消防措施:
- 适用灭火剂:干粉、泡沫、二氧化碳。
- 特殊危险性:与水反应产生有毒气体,避免使用直流水灭火。
- 灭火注意事项及措施:消防人员必须佩戴自给式呼吸器和全身防护服,在安全距离处操作,容器火灾可采用雾状水保持火场容器冷却。
6. 泄漏应急处理:
- 作业人员需佩戴适当的防护装备。
- 使用无火花工具清扫泄漏物,并将其置于适当的处理容器中。
- 大量泄漏时,筑堤控制,用塑料布和无火花工具覆盖减少飞散,随后慢慢加入铲起放入容器中,并根据当地法规处理。
7. 废弃处置:
- 根据国家和地方的废弃物处理法规进行妥善处置。
8. 安全数据表(SDS):
- 详细的安全数据表应包含物理和化学特性、危害识别、成分信息、急救措施、消防措施、泄漏应急处理、储存和操作注意事项、个体防护装备建议、理化特性以及稳定性和反应性等信息。由于无法直接提供完整的SDS,建议联系供应商或查询相关数据库获取详细资料。
1. 纯度:这是衡量化合物中目标物质含量的关键指标。对于该化合物,高纯度通常意味着更少的杂质和副产物,从而提高其在特定应用中的效果。纯度通常通过高效液相色谱(HPLC)、气相色谱(GC)或质谱(MS)等分析技术来测定。
2. 熔点:熔点是固体化合物在标准大气压下从固态转变为液态的温度。对于该化合物,熔点是一个固定的物理常数,可以用于初步鉴定其纯度和结构。
3. 水分含量:水分含量是指化合物中水分子的含量。对于某些应用,如药物合成或材料科学,控制水分含量至关重要,因为它可能影响化合物的稳定性和反应性。
4. 外观与颜色:虽然这不是一个严格的质量指标,但外观和颜色的变化有时可以作为化合物变质或污染的迹象。例如,如果化合物从白色粉末变为黄色或棕色,可能表明它已经发生了氧化或其他化学反应。
5. 溶解性:溶解性是指化合物在特定溶剂中的溶解能力。对于该化合物,了解其在不同溶剂中的溶解性有助于确定其在合成、纯化和应用过程中的最佳条件。
6. 稳定性:稳定性是指化合物在一定条件下保持其化学性质不变的能力。这包括对热、光、氧气和湿度等环境因素的稳定性。对于该化合物,了解其稳定性有助于确定其储存和使用条件。
7. 重金属含量:在某些应用中,如医药或电子行业,重金属含量是一个关键的质量控制指标。重金属如铅、汞和镉等可能对人体健康或电子设备造成危害。
8. 有机挥发物(VOCs)含量:对于需要高纯度化学品的应用,如半导体制造或精密仪器清洗,控制有机挥发物的含量也是非常重要的。
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